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       在將要舉行的ISSCC大會(huì)上，Intel公司正打算透露更多有關(guān)基于45nm high-k工藝的Nehalem微架構(gòu)處理器的細(xì)節(jié)情況。本次的ISSCC大會(huì)將會(huì)于2月8日－12日在美國舊金山召開。 　 

      很顯然的基于Nehalem架構(gòu)的處理器產(chǎn)品功耗必然會(huì)降至10W以下，這也是Nehalem架構(gòu)本身所決定的。而在本次的ISSCC大會(huì)上，Intel公司已經(jīng)計(jì)劃公布多款不同版本新處理器的詳細(xì)情況。 根據(jù)Intel公司的官方消息“新一代的IA處理器最高擁有8個(gè)核心，基于的是增強(qiáng)型Core微處理器架構(gòu)，配備了3級(jí)緩存和雙路SMT，將會(huì)使用45nm high-k metal-gate CMOS生產(chǎn)技術(shù)。該系列處理器將會(huì)集成內(nèi)存控制器，功耗微控制器支持power-gate。功耗從10W以下到130W不等?！?　 

        目前基于Nehalem微處理器架構(gòu)最節(jié)能的處理器產(chǎn)品為Intel Xeon L5520，該處理器擁有8M緩存，核心頻率為2.26GHz，TDP只有60W。 　 現(xiàn)在還無法了解10W以下級(jí)Nehalem處理器的具體推出時(shí)間，但是可以肯定的是其規(guī)格與其性能必然是劃上等號(hào)的。